小型滑动PECVD管式炉系统详细介绍:
小型滑动PECVD管式炉系统,型号为:OTF-1200X-50-PE-SL是一款小型的PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition),滑动式开启式管式炉系统。此套设备带有300W的等离子射频电源,一个炉管直径为50mm的开启式管式炉(带有真空法兰和连接管道)和机械泵组成。因此这套设备模型可以更新为不同的PECVD 系统。对于有限的经费的情况下来进行材料探索,此套系统极为理想。
【技术参数】
特点 |
- 与普通CVD相比可以在低温环境下进行气相沉积实验
- 可以通过炉体滑动达到快速升温和降温
- 对于薄膜的应力可以通过射频电源的频率来进行控制
- 通过工艺调节来控制化学计量
- 可以沉积各种材料,如SiOx, SiNx, SiOxNy 和(a-Si:H) 等.
|
开启式管式炉

|
- 输入电源: 208 – 240V AC,功率: 1.2kW
- 最高工作温度1200°C,小于60分钟
- 炉膛保温材料采用高纯氧化铝多晶纤维,并且内炉膛表面涂有美国进口的高温氧化铝涂层,可以提高加热效率,反射率及延长仪器的使用寿命
- 连续工作温度1100°C
- 炉管采用高纯石英管:50mmOD x 44mmID x 1000mm L
- 可设置30段升降温程序,并且带有过热和断偶保护功能
- 加热区长度:200mm 单温区.
|
等离子体射频电源 |
- 输出功率: 5 -300W 可调 稳定性± 1%
- 射频电源频率: 13.56 MHz 稳定性±0.005%
- 最大反向功率: 200W
- 匹配: 自动
- 射频电源电子输出端口: 50 Ω, N型半导体, 阴极
- 噪音: <50 dB.
- 冷却: 风冷
- 电源 : 208-240VAC, 50/60Hz
|
真空法兰和接头 |
- 真空法兰采用 304不锈钢制作.
- 左端法兰上安装有 KF-25真空接口,2个KF-25快速卸装卡箍,KF-25直角阀,KF-25真空波纹管和1/4软管接头和不锈钢针阀
|
真空泵及水冷机
|
- AC 220V 50 Hz 1/2HP 375W
- 2 Liter /S
- 出气端安装有油雾过滤器(防止油雾扩散到空气中,保护环境和人体健康)
- 真空度: 10-2 torr
- 可选水冷机
|
产品尺寸和重量 |
- 外形尺寸 1500mm x 600mm x 1200mm ( L x W x H)
- 净重: 160kg
|
质保期 |
一年质保期,终身维护,(相关耗材除外,如炉管,密封圈等易耗件) |