PECVD系统

整理的国内外PECVD产品介绍,包括有PECVD产品的厂家信息。PECVD(等离子体增强化学气相沉积,Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition)是一种在半导体制造、微电子、光学镀膜等领域广泛应用的薄膜沉积技术。它通过利用等离子体能量来促进化学反应,从而在较低温度下实现高质量薄膜的沉积。PECVD的核心价值在于 低温、高兼容性、灵活调控薄膜性能,使其成为现代微纳加工中不可或缺的薄膜沉积技术,尤其适用于对温度敏感或需要复杂介质层的先进器件制造。

PECVD系统

微型PECVD系统-合肥科晶

这款小型PECVD,其腔体为 3" dia x 16" L的石英腔体,而且加热圈在石英腔体内部对样品进行加热,此系统配有2通道混气系统和双旋机械泵。整套仪器都按放在一个移动架上,以便于实验操作。等离子腔体内部的最高温度可以达到400℃,采用程序化控温。此款小型廉价的PECVD系统对于薄膜生长和纳米线的制作是一款很好的选择。
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